任意层内通孔——ALIVH® 所有层为交错与堆叠式黄铜胶印激光通孔 每面高达12层,3层为高密度互连积层(ALIVH-C®) 互连层高达12层(ALIVH-C®) 无卤素基材料 (中等TG) 精密的线设计能力 未镀铜,阻抗性能得到提升 减少前置期——并行式加工方式 环保型技术,降低资源消耗