ALIVH®

任意层内通孔——ALIVH®

• 所有层为交错与堆叠式黄铜胶印激光通孔
• 每面高达12层，3层为高密度互连积层(ALIVH-C®)
• 互连层高达12层(ALIVH-C®)
• 无卤素基材料 (中等TG)
• 精密的线设计能力
• 未镀铜，阻抗性能得到提升
• 减少前置期——并行式加工方式
• 环保型技术，降低资源消耗

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Roland Wilfing