ALIVH®

任意层内通孔——ALIVH®

  • 所有层为交错与堆叠式黄铜胶印激光通孔
  • 每面高达12层，3层为高密度互连积层(ALIVH-C®)
  • 互连层高达12层(ALIVH-C®)
  • 无卤素基材料 (中等TG)
  • 精密的线设计能力
  • 未镀铜，阻抗性能得到提升
  • 减少前置期——并行式加工方式
  • 环保型技术，降低资源消耗

中国上海市闵行区莘庄工业区金都路5000号 邮编：201108

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